氧化還原石墨研磨分散機，氧化還原石墨分散機，氧化還原石墨烯分散設備，石墨烯分散機，納米石墨分散機，分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應的物質(zhì)的混合過(guò)程。工業(yè)分散的目標是在連續相中實(shí)現“令人滿(mǎn)意的”精細分布。 
 

薄片是石墨粉末經(jīng)化學(xué)氧化及剝離后的產(chǎn)物，氧化石墨烯是單一的原子層，可以隨時(shí)在橫向尺寸上擴展到數十微米，因此，其結構跨越了一般化學(xué)和的典型尺度。氧化石墨烯可視為一種非傳統型態(tài)的軟性材料，具有聚合物、膠體、薄膜，以及兩性分子的特性。氧化石墨烯長(cháng)久以來(lái)被視為親水性物質(zhì)，因為其在水中具有*的分散性，但是，相關(guān)實(shí)驗結果顯示，氧化石墨烯實(shí)際上具有兩親性，從石墨烯薄片邊緣到中央呈現親水至疏水的性質(zhì)分布。因此，氧化石墨烯可如同界面活性劑一般存在界面，并降低界面間的能量。
               

氧化-還原法是指將天然石墨與強酸和強氧化性物質(zhì)反應生成氧化石墨，經(jīng)過(guò)超聲分散制備成氧化石墨烯，然后加入還原劑去除氧化石墨表面的含氧基團后得到石墨烯。氧化-還原法制備成本較低容易實(shí)現，成為生產(chǎn)石墨烯的主流方法。但是該方法所產(chǎn)生的廢液對環(huán)境污染比較嚴重，所制備的石墨烯一般都是多層石墨烯或者石墨微晶而非嚴格意義上的石墨烯，并且產(chǎn)品存在缺陷而導致石墨烯部分電學(xué)和力學(xué)性能損失。

   
一般國內或者石墨烯會(huì )用砂磨機或者球磨機、超聲波分散機等等？球磨機或者砂磨機他們偏重研磨，會(huì )破壞他們的內部結構 。我們的研磨分散機偏重、分散剝離 。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn)，只是作為一種輔助分散。

研磨：利用剪切力（shear forGe）、摩擦力或沖擊力（impaGtforGe）將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹(shù)脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因為粉體尺度由大變小的過(guò)程中，范德華力及布朗運動(dòng)現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來(lái)控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

GMD2000系列的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

SGN石墨烯研磨設備采用德國較先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高轉速（高可達14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉子（通常配GM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線(xiàn)速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的石墨烯漿料。

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