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一、產(chǎn)品名稱(chēng):藥物晶種濕法研磨分散機,藥物晶種研磨分散機,藥物晶種濕法分散機,藥物晶種濕法研磨機
二、藥物晶種簡(jiǎn)介
晶種是在結晶法中可以形成晶核從而加快或促進(jìn)與之晶型或立體構型相同的對映異構體結晶的生長(cháng)的添加物。加晶種進(jìn)行結晶是控制結晶過(guò)程、提高結晶速率、保證產(chǎn)品質(zhì)量的重要方法之一。
三、晶種的意義
晶種用以提供晶體生長(cháng)的位點(diǎn),以便從均勻的、僅存在一相的溶液中越過(guò)一個(gè)能壘形成晶核,加入的晶種加速了目標晶型的生長(cháng)速率,有助于得到目標品型。工業(yè)制品中,為了得到粒度大且均勻的晶體產(chǎn)品,都要盡可能避免初級成核,控制二次成核,加入適量的晶種作為晶體生長(cháng)的核心通常是必須的,晶種的制備因此也成為制備晶體的一個(gè)重要環(huán)節。
晶種的重要性在于所用的晶種是否需要特別工藝獲取,如果需要,則需要說(shuō)明晶種的獲取途徑,如果晶種的性質(zhì)有特別要求,需說(shuō)明晶種的特性及檢測方法。另外,晶種與晶型的穩定性也存在一定的關(guān)系。例如,也存在某一晶型在別的晶型晶體的表面生長(cháng)。穩定晶型會(huì )在亞穩定型或不穩定型晶型表面成核、生長(cháng),直至*轉晶,這是由于兩種型的某一晶面的結構相似,溶質(zhì)分子可以在亞穩定型或不穩定型晶型晶面上直接堆積、排列成穩定晶型。
四、藥物晶種的粒徑要求
目前許多結晶體一般在40-50UM ,下游的客戶(hù)在處理這些物料有跟高的要求一般需要達到5-10UM ,傳統采用干法氣流粉碎 無(wú)法達到要求的細度,結合多家客戶(hù)案例,推薦GMSD20000系列研磨分散機進(jìn)行晶種研磨細化處理,轉速18000rpm,膠體磨+分散機一體化設備,粒徑可達D90≤10μm。
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五、SGN濕法研磨分散機的結構特點(diǎn)
SGN濕法研磨分散設備采用德國較良好的高速研磨分散技術(shù),通過(guò)超高轉速(高可達18000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉子(通常配GM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使晶種在設備的高線(xiàn)速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。
GMD2000系列研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到更低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。
六、藥物晶種研磨分散機選型表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD 2000/4 | 300 | 18,000 | 50 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1000 | 13,000 | 50 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 3000 | 9,200 | 50 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 50 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 50 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 50 | 110 | DN200/DN150 |
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