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納米材料原位聚合法高速分散機

簡(jiǎn)要描述:SGN納米材料原位聚合法高速分散機可以處理量大,運轉更平穩,拆裝更方便,適合工業(yè)化在線(xiàn)連續生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料全部通過(guò)分散剪切。

  • 產(chǎn)品型號:GRS2000/4
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-08-15
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:559
詳情介紹

納米材料原位聚合法高速分散機,高分子材料高速分散機,德國進(jìn)口立式分散機,納米高速分散機,管線(xiàn)式高速分散機,SGN高速分散機,原位聚合法SGN高速分散機

 

SGN納米材料原位聚合法高速分散機可以處理量大,運轉更平穩,拆裝更方便,適合工業(yè)化在線(xiàn)連續生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料全部通過(guò)分散剪切。

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應的物質(zhì)的混合過(guò)程。工業(yè)分散的目標是在連續相中實(shí)現“令人滿(mǎn)意的”精細分布。 

 

原位聚合法,顧名思義,就是把反應單體填充到納米層狀物的層間,讓其在層間發(fā)生聚合反應

原位聚合法原理原位聚合是一種把反應性單體(或其可溶性預聚體)與催化劑全部加入分散相(或連續相)中,芯材物質(zhì)為分散相。由于單體(或預聚體)在單一相中是可溶的,而其聚合物在整個(gè)體系中是不可溶的,所以聚合反應在分散相芯材上發(fā)生。反應開(kāi)始,單體預聚,預聚體聚合,當預聚體聚合尺寸逐步增大后,沉積在芯材物質(zhì)的表面

 

如納米二氧化硅 即在位分散聚合,該法是應用在位填充技術(shù),將納米SiO2在單體中分散均勻后,再進(jìn)行聚合反應,原位聚合法的特點(diǎn)是既能使納米SiO2粒子均勻分在聚合物中,又保持了粒子的納米屬性,而且原位聚合法通常是一次聚合成型,無(wú)需進(jìn)一步熱加工,因此避免了熱加工帶來(lái)降解的影響,保證了納米SiO2-聚合物基體的各種性能的穩定。

 

SGN分散效果

影響分散乳化結果的因素有以下幾點(diǎn):

1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

 

線(xiàn)速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉子的線(xiàn)速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60

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高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GR2000系列的基礎上又開(kāi)發(fā)出GRS2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過(guò)100.00 rpm,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專(zhuān)門(mén)研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設備,

 

2、設備特點(diǎn)

⑴ GRS設備與傳統設備相比:

高效、節能

傳統設備需8小時(shí)的分散加工過(guò)程,GRS設備1小時(shí)左右完成,超細分散*,能耗極大降低;

高速、高品質(zhì)

傳統設備的攪拌轉速每分鐘幾十轉,帶分散功能的轉速每分鐘1500轉以?xún)龋煌瓿珊暧^(guān)分散加工,超細分散能力極為有限;GRS設備的轉速每分鐘10000~15000轉之間,超高線(xiàn)速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細分散漿料中的粉體。

GRS設備與同類(lèi)設備相比:

多層多向剪切分散

同類(lèi)設備的定轉子等部件結構單一,多級多層的結構是單純重復性加工,相同的齒槽結構易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現象;

GRS設備的定轉子結構采用多層多向剪切概念,裝配式結構使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現象,超細分散更為*。

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