創(chuàng )新型膠體磨，創(chuàng )新膠體磨，改進(jìn)型膠體磨，改良型膠體磨，研磨分散膠體磨，研磨分散機

上海SGN技術(shù)，*創(chuàng )意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改進(jìn)，在原來(lái)GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改進(jìn)成兩級模塊，加入了一級分散盤(pán)（均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán)）。從而形成改進(jìn)型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種創(chuàng )新的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

創(chuàng )新型膠體磨，這種*的設計，放眼世界，獨上海SGN一家，更多關(guān)于的信息，請接洽上思峻！                         
           


創(chuàng )新膠體磨，研磨分散機，簡(jiǎn)單的來(lái)講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機，合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機的功能，并且減少了膠體磨和分散機串連后的，時(shí)間差因素。從成本上來(lái)講，原先兩臺設備的價(jià)格，現在用一臺研磨分散機就可以完成，性?xún)r(jià)比更高。

GMD2000系列創(chuàng )新膠體磨，研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇）

GMD2000系列創(chuàng )新膠體磨，研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。

  
         
GMD2000系列創(chuàng )新膠體磨，研磨分散機的特點(diǎn)：

①   線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說(shuō)的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

，研磨分散機，研磨均質(zhì)機，研磨乳化機，全新的設計理念，超高設備剪切力，以及穩定的設備運行，SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設備服務(wù)！