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化工研磨分散機

簡(jiǎn)要描述:化工研磨分散機GMD2000系列,是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000/4
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-08-18
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:443
詳情介紹

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對于化工行業(yè)而言,許多領(lǐng)域都對用于研磨分散設備對物料進(jìn)行研磨細化,分散均勻。化工行業(yè)研磨分散設備有許多,如:膠體磨、研磨機、分散機,研磨分散機等等。上海SGN專(zhuān)業(yè)于研磨分散設備的研發(fā)和生產(chǎn),在化工行業(yè)有著(zhù)十分廣泛的應用,如:白炭黑的分散機,涂料的研磨分散機、氧化物的研磨分散,改性潤滑油,柴油乳化,石蠟乳化等。

                     

化工研磨分散機GMD2000系列,是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)。

 

GMD2000系列的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。


*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

   
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。

    
GMD2000系列的特點(diǎn):

①線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨

②定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

 

SGN研磨分散機設備選型表:

 

研磨分散機

流量*

輸出

線(xiàn)速度

功率

入口/出口連接

類(lèi)型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMSD 2000/4

300

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1000

10,500

44

11

DN40/DN32

GMSD 2000/10

3000

7,300

44

22

DN80/DN65

GMSD 2000/20

8000

4,900

44

37

DN80/DN65

GMSD 2000/30

20000

2,850

44

55

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

2,000

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調節到zui大允許量的10%。

 

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